第671章 第二步：覆海！破晓 A220 EUV光刻机，陈总的新筹码！

八月中旬，阿里巴巴IPO丶金陵青奥会丶奥氏体304丶冰桶挑战丶古剑奇谭和锋菲复合的热度最高，

让网友们满心疑惑的是，陈延森就像凭空销声匿迹了似的，完全是一副查无此人的状态。

距他上一次公开露面，还是月初时，参加橙子幼儿园的剪彩仪式。

「学前教育行业的势力这麽大吗？连前几天的商界领袖峰会，森哥都没参加。」

「我听说陈延森被人打了黑枪，现在还在沪城六院躺着呢！」

「不对啊，我听到的版本是陈总买卖爱情的时候被抓了，最少得关半个月！」

「666！楼上的哥们，你当森联资本的1000多名法务是摆设啊？等着收律师函吧！」

「笑死，删帖速度挺快呀！这是森联资本出手了，还是他自己怕了？」

「森哥早被人暗杀了！下个月要是有他的公开露面，那肯定是替身！」

就在陈延森忙着推进EUV光刻机的研发进度时，网上关于他的谣言却越传越离谱。

据不完全统计，在网友的嘴里，陈延森的死法包括但不仅限于枪杀丶被车撞丶遭毒杀丶溺水身亡等。

最终还是森联资本法务部联合微博丶今日头条丶斗音丶快手和微信等多家平台，才把造谣的声音给压了下去。

而陈延森则在一周之内，就接到了老陈的三通电话，在确定自家儿子没事后，扭头便化身辟谣战士，跑到网上跟散布谣言的网友直接对线。

陈延森得知后，倒也没有阻拦。

毕竟和人吵架，也能预防老年痴呆。

时间转瞬即至，来到8月23日的傍晚。

盛夏的晚风，将星源科技研发中心的香樟树吹得枝叶婆娑，沙沙作响。

最里层的核心实验室，此刻却亮如白昼，空气里弥漫着一种近乎凝固的炽热。

时间的概念被恒定的温度和湿度所模糊，唯一能感受到的流逝，是控制室屏幕上跳动的数字。

陈延森穿戴整齐，裹得严严实实，与梁劲松丶林南丶汪象朝和章延杰等人站在控制台前，透过厚重的抗辐射玻璃，凝视着眼前的庞然大物。

尽管这台EUV光刻机只是Alpha样机，但金属机身在冷光灯下泛着精密的银辉，数不清的管线如脉络般缠绕，核心腔室的观察窗透出淡紫色的微光。

EUV光源丶光学系统和双工件台的技术天堑，竟被他们一个接一个地成功攻克。

大厅里异常安静，只能听到通风系统低沉的嗡鸣。

工程师们穿着全套无尘洁净服，像手术室里的医生，在设备周围轻缓走动，进行着最后的检查。

「老板，各分系统自检完毕，真空机组随时可以启动。」

林南的声音略带沙哑，冲着陈延森汇报导。

陈延森点了点头道：「按计划执行，逐步建立光路真空。」

命令下达后，控制室内的气氛瞬间绷紧。

巨大的真空泵组开始工作，发出低沉的咆哮。

显示屏上，代表光路内部真空度的数字，呈现断崖式的下跌趋势：0.01 Pa丶0.0001 Pa丶0.000001 Pa，向着高真空迈进。

所有人的心都提到了嗓子眼！

极致的真空环境是EUV光源传输的前提，任何一个微小的泄漏，都会导致前功尽弃。

不知过了多久！

汪象朝突然大声喊道：「真空度稳定在0.0000006帕斯卡！已达预设值！」

控制室内响起一阵轻微的丶克制的骚动，有人轻轻握了握拳。

第一步，成功了！

为什麽EUV光刻机的光源系统丶主腔体中的照明光学系统丶成像光学系统丶晶圆平台模组丶掩模搬运模组和晶圆搬运模组都得处于真空环境下？

这是因为EUV光波长极短，极易被包括空气在内的所有物质吸收。

在真空环境中，可最大限度减少气体分子对EUV光的吸收和散射，从而确保光源能量能有效传输至后续光学系统。

若处于非真空环境，EUV光会在传输过程中大幅衰减，无法满足光刻所需的能量强度。

这一模块的核心技术，是由章延杰牵头，联合几十名渖阳光机所的工程师共同攻关拿下的。

因此，他比任何人都紧张，生怕出现纰漏，拖了团队的后腿。

「启动光源预热，功率设定为最低档位。」

陈延森语气平静地宣布下一道指令。

令人紧张的时刻到来！

这是星源科技驯服的第一头猛兽——磁约束放电激发等离子体光源（MCDE-EUV光），即将被唤醒！

如果一切正常，它将用「电磁场」代替「雷射」作为激发和约束等离子体的手段，进而获得微弱的丶波长为13.5纳米的极深紫外光。

时间一分一秒地过去。

主监控屏上，一个原本平坦的基线，微微跳动了一下。

随后，一个虽然微弱但清晰可辨的信号峰值，顽强地升了起来！

「有信号了！」一名年轻的研究员忍不住地喊了出来，声音因激动而变得有些失真。

大家心里清楚！

第一台EUV光刻机对华国的重大战略意义！

几乎在同一时间，位于光路末端的EUV功率探测器，传回了第一条数据：107瓦！

一个在ASML看来早已被甩在身后的数字，此刻却让整个控制室陷入了短暂的寂静，随即爆发出巨大的欢呼声！

许多人下意识地拥抱在一起，眼眶瞬间红了。

林南感觉自己的手都在微微颤抖，于是紧紧抓住栏杆，强迫自己冷静下来。

陈延森倒是心态平稳，他抬手压了压，控制室里的欢呼声很快平息。

「提高功率档位！」陈延森继续说道。

EUV光刻机的功率直接决定单位时间内的晶圆处理数量，每一次曝光都需足够的EUV光能量触发光刻胶的光化学反应。

若光源功率低，需延长单次曝光时间或增加脉冲次数，才能满足能量需求，导致单晶圆处理时间变长。

比如200W功率的机型每小时可处理约125片晶圆，而250W机型可提升至每小时170片，产能提升近40%。

技术差一点，就是差了一大截！

而且功率越高，单位晶圆的光刻成本就越低，规模化优势就越强。

闻言，林南立刻收敛心神，右手在控制台上快速滑动，目光紧盯着功率调节界面：「收到！当前目标档位220瓦，升压速率已调至安全阈值，避免等离子体不稳定。」